产品概况
高真空晶体炉是一款IGBT感应加热的高端晶体制备设备,专为1600℃高温下的高纯氧化物晶体、压电晶体、氟化物晶体及激光晶体生长设计,适配科研院所及企事业单位实验室晶体生长设备。
设备采用感应加热模式,真空系统配备分子泵机组,冷炉极限真空达≤5*10-3Pa,另设有充放气接口,可灵活切换真空或气氛工艺。
提拉旋转机构实现0.1-10mm/h慢速提拉与0.1-50r/min转速的高精度调节,搭配快速提拉功能提升操作效率;上下部密封均采用循环水冷却,保障设备长期稳定运行。整机通过液晶触摸屏界面实现升降、旋转、中频启停的程序化控制,三色指示灯实时预警故障,大幅降低人工监测成本,兼顾工艺精准度与操作安全性。
技术参数
1、加热方式:感应加热(坩埚封装于石英管内)
2、中频功率/频率:15KW/2.5kHz
3、坩埚规格:φ60*100mm
4、最高加热温度:1600℃
5、石英管规格:φ100*400mm
6、冷炉极限真空度:≤5*10-3Pa
7、真空机组配置:分子泵(外置)
8、接口配置:抽真空接口、充放气口
9、慢速提拉速度:0.1-10mm/h
10、快速提拉速度:10-70mm/min
11、晶杆转速范围:1-50r/min
12、提拉机构:步进电机+减速机+滚珠丝杠+导轨
13、旋转机构:旋转电机+旋转磁流体密封
14、密封结构:上下部均与石英管密封
15、冷却方式:循环水冷却
16、操作界面:液晶触摸屏
17、控制功能:慢升/慢降/快升/快降、正转/反转、暂停
18、报警系统:红黄绿三色指示灯
19、控制柜配置:温度控制、运动控制电气集成