氮化硅合成炉

  • 氮化硅合成炉是专门用于制备高纯氮化硅(Si₃N₄)粉体或坯体的专用高温热工设备,核心原理是在高温、高纯氮气气氛下,通过硅粉直接氮化反应或硅的气相氮化反应完成合成,设备需满足高氮分压、精准控温、低杂质污染的工艺要求。

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    产品概况

  • 设备介绍:

    氮化硅合成炉是专门用于制备高纯氮化硅(Si₃N₄)粉体或坯体的专用高温热工设备,核心原理是在高温、高纯氮气气氛下,通过硅粉直接氮化反应或硅的气相氮化反应完成合成,设备需满足高氮分压、精准控温、低杂质污染的工艺要求。

    氮化硅合成炉使用温度150014寸液晶触摸屏程序设置,控温精准,经过充气升温使金属硅粉转变成氮化硅粉,在氮化过程中可以通过氢气进行还原,通入氩气控制整个氮化过程,使氮化硅粉的α相高于95%,,Fe.O.N.A1.Ca都能达到优良品质,整机配套脱氧脱水系统。

    氮化硅是一种超硬物质,本身具有润滑性,并且耐磨损,高温抗氧化,能抵抗冷热冲击,生产过程中加热到1000℃以上,急冷急剧也不会碎裂。正是由于氮化硅陶瓷具有优异的特性,人们通常用它来制造轴承、气轮机叶片、机械密封环、永久性模具等机械构件。液晶触摸屏控制操作简单,该设备生产过程安全稳定,保证氮化硅生产的高纯度。可储存30条工艺曲线,并具有PID参数自整定功能。人性化配置,也可以实现一键智能操作。

    氮化硅合成专用炉采用硅钼棒做发热体加热,最高温度可达1600℃。专用炉的大小尺寸和加热功率可根据用户的需要设计、制造。

    技术参数

    1、设备型号:DHG1600

    2、保温材料:高纯氧化铝纤维

    3、加热方式:硅钼棒

    4、测温元件:钨铼热电偶

    5、控温方式:液晶触摸屏+PLC控制

    6、真空度:≤10Pa(冷态空载)

    7、气氛保护:可通氮气,氩气等惰性气体(正压≤0.08Mpa)

    8、工作区尺寸:400*300*300mm、500*400*400mm、600*500*500mm/定制尺寸

    9、工作温度:≤1600℃

    10、控温精度:±1℃

    11、工作电源:380V

    12、炉体结构:卧式侧开门/立式底部升降