真空石墨炉

  • 在新材料研发、精密制造与高端科研领域,真空石墨炉作为实现高温真空环境下材料处理的关键设备,凭借其独特的性能与广泛的适用性,成为突破材料制备技术瓶颈的核心力量。从半导体材料的高温烧结,到新能源领域石墨负极的碳化处理,再到航空航天领域特种陶瓷的制备,真空石墨炉正以不可替代的作用,推动着多行业的技术升级。

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    产品概况

  • 设备介绍:

    扩散炉(退火炉)又称KSL1200管式炉是一款兼具高精度与高灵活性的工业级热处理设备,专为材料烧结、金属热处理、半导体材料加工等工艺设计。设备核心采用进口康泰尔电阻丝作为加热元件,搭配K型或S型热电偶,结合触摸屏一体机与PLC控制系统,通过PID自整定算法实现精准温控,控温精度达±0.5℃,升温速率可在115℃/min范围内调节,30段程序执行升、恒、降温曲线,满足多样化工艺需求。

    炉体设计支持高定制,炉管尺寸覆盖φ40mmφ300mm,恒温区长度从80mm至1000mm可选,最高工作温度可达1200℃,适配不同规格样品的处理。气路系统采用316L不锈钢与聚四氟乙烯材质,可通入氮气、氩气等惰性气体(正压<0.02MPa),有效防止样品高温氧化。设备兼容220V/380V供电,兼顾实验室研发与中试生产需求,是高精度热处理领域的可靠选择。

    技术参数

    1、设备型号:KSL1200

    2、石英管尺寸:φ40mm~φ300mm(可定制)

    3、加热元件:进口KANTHAL(康泰尔)电阻丝

    4、测温元件:K型热电偶或S型热电偶

    5、控温方式:采用触摸一体机,传感器控制精度为0.1级。高精度温度控制专用模块进行温度控制。主控单元(PLC)通过RS485通讯口与仪表通讯,可通过工艺编程实现全自动执行升、恒、降温度曲线。温控模块使用自整定的PID进行温度的精确控制

    6、气氛保护:可通氮气,氩气等惰性气体(正压<0.02Mpa下使用)

    7、真空度:-0.1MPa~6.67*10-4Pa可选

    8、恒温区长度:80mm、180mm、280mm、350mm、450mm、550~1000mm/可定制尺寸

    9、工作温度:1200℃(可定制)

    10、工作电源:220V或380V

    11、升温速率:1~15℃/min

    12、控温精度:±0.5℃

    13、温度均匀度:≤±5℃