真空石墨炉

  • 在新材料研发、精密制造与高端科研领域,真空石墨炉作为实现高温真空环境下材料处理的关键设备,凭借其独特的性能与广泛的适用性,成为突破材料制备技术瓶颈的核心力量。从半导体材料的高温烧结,到新能源领域石墨负极的碳化处理,再到航空航天领域特种陶瓷的制备,真空石墨炉正以不可替代的作用,推动着多行业的技术升级。

  • 产品咨询:400-820-8727

    产品概况

  • 设备介绍:

    在新材料研发、精密制造与高端科研领域,真空石墨炉作为实现高温真空环境下材料处理的关键设备,凭借其独特的性能与广泛的适用性,成为突破材料制备技术瓶颈的核心力量。从半导体材料的高温烧结,到新能源领域石墨负极的碳化处理,再到航空航天领域特种陶瓷的制备,真空石墨炉正以不可替代的作用,推动着多行业的技术升级。

    核心优势

    真空石墨炉的核心优势,在于其对高温环境与真空氛围的精准控制。炉体以高纯石墨为加热元件,利用石墨优异的耐高温性能(最高使用温度可达2300℃以上),利用石墨自身电阻特性,将电能高效转化为热能,同时结合真空/保护气氛环境,实现高温、洁净的加热效果

    智能控制系统则是真空石墨炉的“大脑”,通过触摸屏精准设定升温速率、保温温度、保温时长、真空度等核心参数,实现程序自动化运行。无论是快速升温的急冷工艺,还是长时间恒温的烧结工艺,设备都能保持温度场的均匀性,确保材料处理的一致性与稳定性,为科研实验与工业生产提供可复制、可追溯的工艺保障。

    核心结构:

    集成式一体化结构,外壳及框架采用优质碳钢焊接表面静电喷塑处理,炉体部分采用双层水冷不锈钢真空腔体,搭配高精度的真空阀门与真空规管,既保证了真空密封性能,又能直观监测炉内真空度;石墨加热区则采用模块化设计,选用高纯等静压石墨材料,兼具耐高温、抗热震性与导热均匀性,避免局部高温对材料造成的损伤。

    控制系统集成了触摸屏、PLC模块与报警装置,支持实时显示温度、真空度、升温曲线等数据,一旦出现超温、超压、断水等异常情况,设备会自动触发报警并停机,保障操作安全;炉体底部的移动脚轮与配套检修平台,也兼顾了设备的搬运便利性与后期维护需求,让复杂的高温处理设备变得更易操作、更易养护。

    技术参数:

    1、加热区数:1区

    2、设计最高温度:2400℃

    3、工作温度:≤2300℃

    4、升温速率:1-10℃/min

    5、有效工作区:Φ330*280mm/可定制(直径×高)

    6、真空可选范围:-0.1MPa~6.67*10-4Pa(冷态空载)

    7、真空系统配置:罗茨泵机组、扩散泵机组/分子泵机组

    8、充气方式:手动/自动

    9、气体介质:可通氮气,氩气等惰性气体(正压<0.08Mpa下使用)

    10、控制方式:液晶触摸屏+PLC控制

    11、测温元件:钨铼热电偶+红外测温仪

    12、温度控制精度:≤±1℃

    13、冷却部位:炉盖、炉身、电极、泵组等

    14、安全保护:超压保护-充气阀自动关闭、机械式安全阀自动开启、并配以声、光报警

    超温保护-加热电源自动关闭、并配以声、光报警

    断水保护-加热电源自动关闭、并配以声、光报警